| 【消費(fèi)電子實(shí)驗(yàn)室-2021/9/17】雖然EUV號稱擁有十萬個(gè)精密零件，但其難度系數(shù)最高、最核心的技術(shù)只有三項(xiàng)，分別是：光源、光學(xué)鏡頭、雙工件臺系統(tǒng)。
在今年初，由唐傳祥教授帶領(lǐng)的清華科研團(tuán)隊(duì)，通過SSMB認(rèn)證探索出了一種新型加速粒子加速器“穩(wěn)態(tài)微聚束”，其波長可從太赫茲覆蓋到極紫外光波段，而極紫外光正是EUV設(shè)備的核心光源技術(shù)。 這意味著，被美企所壟斷的光源技術(shù)正式被中國科學(xué)家打破。業(yè)內(nèi)人士表示：研發(fā)出了自主光源，就等于EUV光刻機(jī)研發(fā)完成了一半。 另據(jù)媒體報(bào)道，在清華科研團(tuán)隊(duì)的技術(shù)支持下，華卓精科自主研發(fā)的雙工件臺系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了全面升級，其應(yīng)用精度現(xiàn)階段已達(dá)到了1.8nm的全球頂尖水平。 要知道，雙工件臺是ASML應(yīng)用于EUV光刻設(shè)備的為數(shù)不多的獨(dú)有技術(shù)，就連日本老牌光刻巨頭尼康和佳能，也沒能達(dá)到比肩ASML的1.8nm水平。 ASML之所以會不看好我們實(shí)現(xiàn)高精尖光刻設(shè)備的國產(chǎn)化，很大原因就是它對自己所壟斷的雙工件臺技術(shù)相當(dāng)自信�？蓻]想到打臉會來的這么快。
特別值得一提的是，在光源系統(tǒng)和光學(xué)鏡頭方面，中科院的首臺高能輻射光源與中科科美的0.1nm鍍膜裝置均已投入使用。 綜上所述，現(xiàn)階段EUV最復(fù)雜的三大核心技術(shù)均已完成突破，正如林毅夫教授所預(yù)言的那樣：國產(chǎn)高精尖光刻設(shè)備的落地應(yīng)用，在三年之內(nèi)或許就能完成。 |
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