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2021-7-6 19:43| 發布者: cncelab| 查看: 1100| 評論: 0

摘要: 今年五月份南大光電首度披露的研發成果，正是ArF光刻膠，該產品已經能夠適配于55nm芯片的生產，而南大光電也表示，這類光刻膠能夠用來生產眾多工藝水平的芯片，從90nm到14nm，再到7nm芯片生產都可以。

【消費電子實驗室-2021/7/6】在光刻膠市場中，產品共分為四大類，使用量大的兩種光刻膠，已經是各大企業最基礎的生產原料，而最頂尖的兩種則是被日本企業所壟斷，ArF光刻膠就是其中一個。

今年五月份南大光電首度披露的研發成果，正是ArF光刻膠，該產品已經能夠適配于55nm芯片的生產，而南大光電也表示，這類光刻膠能夠用來生產眾多工藝水平的芯片，從90nm到14nm，再到7nm芯片生產都可以。

生產出來的頂尖芯片，可以廣泛應用到人工智能操作系統、5G通信技術領域和云計算方面，性能堪稱一流。

由此可見南大光電此番取得的成就非同一般，未來研發更高水平的芯片已經不是問題。

南大光電未來的發展會如何呢？

目前，世界芯片的供應越發緊張，除了各大芯片代工企業的生產線不夠用之外，半導體材料也略顯緊張，這就導致芯片市場迎來了一波漲價熱潮，也相應地促進了各大企業進行產能擴充的計劃。

中芯國際和臺積電等企業，都在緊鑼密鼓地籌劃生產線的擴充，未來將會有更多的半導體材料需求，屆時南大光電的頂尖光刻膠勢將會大有用武之地。。

但是，日本的信越化學、住友和ISR等企業都還處于不敗之地，甚至五家日本企業在全球的市場份額已經達到了87%。南大光電要做的不僅是產品的研發，更是技術水平的提升，從而獲取更多的訂單和市場份額。

前不久南大光電也已經擴建了一條光刻膠生產線，預計產能會達到25噸，南大光電已經突破技術，迅速投入生產，盡可能早地入局國際光刻膠市場，謀求市場份額。

得注意的是，這條生產線中，絕大多數生產設備都是國產自研設備，不會受到任何一家外國企業的壟斷控制。